در این گزارش، روشی برای نانوساختارهای سه بعدی آرایه های منظم و با چگالی بالا از نانوساختارهای سیلیکون کریستالی شرح داده شده است. از دو روش نانولیتوگرافی برای ساخت آرایه نانوساختار استفاده شد. لیتوگرافی تالبوت جابجایی (DTL)و لیتوگرافی لبه ای (EL). DTL برای انجام دو مرحله (متعامد)الگودهی مقاومت برای الگودهی یک لایه نازک Si۳N۴ به کار می رود. لایه دوگانه الگودار حاصل به عنوان یک ماسک حک برای تمام مراحل حک بیشتر برای ساخت آرایه های منظم از نانوساختارهای سیلیکونی عمل می کند. این آرایه ها با استفاده از حکاکی مرطوب ناهمسانگرد سیلیکون در ترکیب با مرحله حکاکی بازتابی ناهمسانگرد ماسک اچ، یعنی EL ساخته می شوند. این روش ساخت نانوساختارها با ابعاد زیر ۱۵ نانومتر و چگالی پتانسیل ۱۰۱۰ کریستال cm - ۲ را ممکن می سازد.. برای مشاهده ادامه مطلب به سایت هشت اکسیر مراجعه کنید.
پاسخ با نقل قول
درباره ما
پایگاه خبری دانشجویان پیام نور (پیام نورنا) در مهرماه سال 88 با هدف بهبود سطح دانش و کمک به دانشجویان پیام نور تاسیس گردید .پیام نورنا وابسته به هیچ نهادی نمی باشد و به صورت کاملا مستقل فعالیت می کند. تابع قوانین جمهوری اسلامی ایران هستیم و مفتخریم که بزرگترین جامعه مجازی دانشجویان پیام نور در سطح اینترنت هستیم
ارسال پیام به مدیر سایت